CellaCrystal PX 44是为硅和碳化硅晶体生产中的光学温度测量而开发的。校准特别适合于生长过程。由于混合信号评估在整个测量范围内具有< 0.1 K的恒定高分辨率,以及恒定光传感器技术带来的非常高的长期稳定性,该设备满足了对必要的测量精度的高要求。专题报道:测量范围 750 至 3000 °CPX 44 AF 4 用