CellaCrystal PX 44 は、Si および SiC 結晶の製造における光学式温度測定用に開発されました。校正は特に成長プロセスに合わせて調整されています。測定範囲全体にわたって常に 0.1 K 未満の高分解能を実現するハイブリッド信号評価と、均一光センサー技術による非常に高い長期安定性により、この装置は求められる測定精度に対する高い要求を満たします。特集: