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高温计 CellaCrystal PX 64

CellaCrystal PX 64用于CVD(化学气相沉积)涂层过程的温度测量。由于其特殊的波长,高温计也可用于等离子体增强蒸气沉积。专题报道:测量范围 500 – 1400 °C专为使用等离子体辅助 CVD 过程进行测量而开发恒定光商测量过程无旋转滤光片由于自热极小而具

高温计 CellaCrystal PX 64

文章描述

CellaCrystal PX 64用于CVD(化学气相沉积)涂层过程的温度测量。由于其特殊的波长,高温计也可用于等离子体增强蒸气沉积。

专题报道:
  • 测量范围 500 – 1400 °C
  • 专为使用等离子体辅助 CVD 过程进行测量而开发
  • 恒定光商测量过程
  • 无旋转滤光片
  • 由于自热极小而具有高长期稳定性
  • 可聚焦光学器件可实现精确测量测量距离的调整
  • 标准:IO-Link接口和模拟输出


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版本 CellaCrystal PX 64 AF 2 
测温范围 500 - 1400 °C 
聚焦范围 0,2 - 0,4 m 
测量区域的形状 圆形 
距离系数 75 : 1 
镜头 PZ 20.03 
测量原理 双色 
瞄准选项 通过目镜 
瞄准选项 激光瞄准 
瞄准选项 摄像机