CellaWafer PK 35, örneğin RTP (Hızlı Isıl İşlem) kullanılarak yarı iletkenlerin kaplanması ve ısıl işlemi sırasında 450 ila 1400 °C arasındaki sıcaklık aralığında hızlı ve hassas sıcaklık ölçümü için